北京
国家知识产权局信息显示，元曜量子科技（无锡）有限公司申请一项名为“一种高亮度单光子源及其制备方法和用途”的专利，公开号CN122206030A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明涉及一种高亮度单光子源及其制备方法和用途，所述制备方法包括以下步骤：（1）在衬底上制备金属薄膜层，得到样品A；（2）在样品A含有金属薄膜层的上表面制备二维材料层，得到样品B；（3）对样品B的中心区域进行图案化，形成纳米间隙阵列，得到样品C；（4）去除样品C边缘未图案化区的金属薄膜层和二维材料层，得到样品D；（5）在样品D含有纳米间隙阵列的上表面及边缘处制备单光子源薄膜材料层，得到高亮度单光子源。本发明通过对等离激元结构设计和制备，发展单光子源和等离激元热点的自发耦合技术，最终实现了高亮度二维材料单光子源的定点制备。
天眼查资料显示，元曜量子科技（无锡）有限公司，成立于2025年，位于无锡市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本111.1111万人民币。通过天眼查大数据分析，元曜量子科技（无锡）有限公司专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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