北京
分享至
国家知识产权局信息显示，维尔塞特公司申请一项名为“使用投影孔径区域进行波束校正”的专利，公开号CN122162322A，申请日期为2023年8月。
专利摘要显示，描述了用于使用投影孔径区域进行波束校正的方法、系统和设备。在一些示例中，与天线系统的电子扫描天线耦合的控制器可测量由所述电子扫描天线从目标接收的信号的功率参数。控制器可基于将具有投影俯仰角调整参数的线性回归应用于所测量的功率参数来确定偏移，其中所述偏移包括指向方向与使用所述线性回归确定的目标方向之间的差，并且其中使用所述天线系统相对于所述目标的投影孔径区域来调整所述投影俯仰角调整参数。在一些示例中，所述控制器可基于所确定的偏移来扫描所述天线系统的波束的方向。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
