北京
国家知识产权局信息显示，宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司申请一项名为“上置式单晶炉排气系统及单晶炉”的专利，公开号CN122105605A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明提供一种上置式单晶炉排气系统及单晶炉，属于单晶炉技术领域。包括：排气法兰，所述排气法兰设置在单晶炉的炉盖与中炉筒之间，并分别与所述炉盖、所述中炉筒密封连接；所述排气法兰上开设有排气孔，排气孔的一端与单晶炉内部连通，排气孔的另一端与排气管道连通。本发明摒弃传统底部排气，将排气口设置于中炉筒与炉盖之间的排气法兰处，保护气体从导流筒上方进入，经熔体表面后向上通过排气法兰的排气孔排出，可以缩短气流路径，使废气更早、更直接地从高温区排出，减少氧化物在管道内冷凝和沉积的机会。
天眼查资料显示，宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司，成立于2015年，位于银川市，是一家以从事非金属矿物制品业为主的企业。企业注册资本150000万人民币。通过天眼查大数据分析，宁夏中欣晶圆半导体科技有限公司参与招投标项目17次，专利信息389条，此外企业还拥有行政许可25个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
