北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“确定采样方案的方法和相关量测方法”的专利，公开号CN122003644A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，公开了一种确定用于测量至少一个衬底或其一部分的采样方案的方法，衬底经历光刻工艺以使用光刻设备曝光衬底上的结构，光刻设备包括用于测量衬底的测量工位和用于对衬底进行曝光的曝光工位。该方法包括确定上述测量工位上的测量动作和上述至少一个衬底的曝光部分之间的相关性；根据上述相关性确定与光刻工艺相关的感兴趣参数的预期可变性；以及根据上述预期可变性确定采样方案。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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