北京
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国家知识产权局信息显示，格科半导体（上海）有限公司申请一项名为“背照式图像传感器及其形成方法”的专利，公开号CN121888713A，申请日期为2024年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种背照式图像传感器的形成方法，包括：提供衬底；所述衬底正面形成有像素区和逻辑区的器件；在所述衬底的背面形成深沟槽；通过低温外延生长工艺，在所述深沟槽表面形成掺杂外延层；所述外延生长的温度不超过550℃、压力不超过40Tor，以降低温度对所述衬底正面像素区和逻辑区的器件的影响。
天眼查资料显示，格科半导体（上海）有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本700000万人民币。通过天眼查大数据分析，格科半导体（上海）有限公司参与招投标项目20次，专利信息149条，此外企业还拥有行政许可96个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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