国家知识产权局信息显示,星奇(上海)半导体有限公司申请一项名为“一种半导体设备用流体限流组件”的专利,公开号CN121782408A,申请日期为2026年2月。
专利摘要显示,本说明书实施例提供一种半导体设备用流体限流组件,包括基体和限流件,所述基体上开设有用于容纳所述限流件的第一通孔,所述限流件上开设有供流体穿过的第二通孔,还包括过渡件,所述过渡件固定安装于所述第一通孔内,所述过渡件上开设有安装槽,所述限流件嵌入所述安装槽内;其中,所述过渡件的刚度小于所述限流件的刚度。过渡件的刚度小于限流件的刚度,在限流件膨胀过程中,过渡件相对更容易发生变形,当限流件膨胀对过渡件产生挤压时,过渡件能够通过自身的变形来吸收和缓冲这部分因膨胀产生的力,不会对限流件产生强大的反作用挤压力,大大提高了限流件在温度变化环境下的可靠性和使用寿命。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.