北京
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国家知识产权局信息显示，云南大学;华彩光能科技（云南）有限公司申请一项名为“包括含氟小分子有机物的界面修饰层及制备方法和应用”的专利，公开号CN121772484A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种包括含氟小分子有机物的界面修饰层及制备方法和应用，所述界面修饰层位于钙钛矿太阳能电池的空穴传输层和金属电极之间，所述界面修饰层包括含氟小分子有机物。本发明在钙钛矿太阳能电池的HTL与金属电极之间设计构建了一层具有化学惰性、反应屏蔽能力强、阻隔离子迁移的界面修饰层，该界面修饰材料可以用于构筑稳定的空穴传输层/金属电极界面。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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