北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“确定光刻工艺的定位校正的方法”的专利，公开号CN121773376A，申请日期为2024年8月。
专利摘要显示，公开了一种在光刻工艺中确定衬底的定位校正的方法。该方法包括针对各种训练数据集获得训练后的第一模型，该训练后的第一模型已被训练为在执行导致衬底的物理变形的至少一个动作之后使该衬底上的力的力平衡残差最小化，该物理变形受到该衬底与支撑该衬底的衬底支撑件之间的非线性摩擦相互作用的影响；获得与该衬底相关的估计衬底变形数据；将该估计衬底变形数据输入到该训练后的第一模型中，以在该动作之后获得与该衬底相关的建模衬底变形数据，该建模衬底变形数据考虑了该衬底与该衬底支撑件之间的该非线性摩擦相互作用；以及使用该建模衬底变形数据确定曝光中该衬底的定位校正。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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