北京
国家知识产权局信息显示，广东先导微电子科技有限公司申请一项名为“一种大尺寸磷化铟晶片的清洗方法”的专利，公开号CN121751991A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体材料技术领域，具体公开了一种大尺寸磷化铟晶片的清洗方法，清洗步骤如下：将大尺寸磷化铟晶片固定于载物台上，调节载物台倾斜角度使磷化铟晶片与水平面呈夹角；启动载物台使其旋转，同时向处理室注入清洗液进行喷洗；喷洗结束后，清洗液注入量占比呈线性降至0%，同步注入去离子水补足流量，清洗全程载物台转速保持周期性波动；待清洗液流量为0%，将载物台转速降至第二速率，再以恒定速率垂直向上提拉载物台使磷化铟晶片脱离液面；提拉时同步进行蒸汽干燥，得到表面洁净、结构完整的大尺寸磷化铟晶片，解决了现有清洗工艺难以对大尺寸磷化铟晶片实施均匀且无损清洗的技术难题。
天眼查资料显示，广东先导微电子科技有限公司，成立于2020年，位于清远市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本59292.16万人民币。通过天眼查大数据分析，广东先导微电子科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目41次，财产线索方面有商标信息18条，专利信息529条，此外企业还拥有行政许可195个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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