北京
国家知识产权局信息显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司申请一项名为“双重光刻模型的构建方法及相关产品”的专利，公开号CN121704138A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种双重光刻模型的构建方法及相关产品。双重光刻模型的构建方法包括构建一重光刻刻蚀模型；构建二重光刻模型；对一重刻蚀仿真图和二重显影仿真图进行融合，得到融合仿真图；构建二重刻蚀模型，二重刻蚀模型用于根据融合仿真图、一重刻蚀仿真图和二重显影仿真图得到刻蚀仿真图。本构建方法使得二重刻蚀模型在仿真过程充分中考虑了融合仿真图、一重刻蚀仿真图和二重显影仿真图，使得最终得到的刻蚀仿真图能够准确反映LE1工艺对LE2工艺的二重刻蚀仿真图的影响，并且能够准确反映LE2工艺对由LE1工艺的一重刻蚀仿真图的影响，提高了LELE工艺模型的精度，有效促进了双重光刻技术的进一步应用与推广。
天眼查资料显示，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司，成立于2014年，位于北京市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本36401.6097万人民币。通过天眼查大数据分析，东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目49次，财产线索方面有商标信息156条，专利信息410条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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