巨亏36.8亿！中国光刻机突围，没想到最先扛不住的竟是日本？

光刻机这行最讽刺的地方在于，越是“卡脖子”的东西，越不该亏钱。

可现实偏偏反着来。

日本尼康2025财年预亏850亿日元，折合人民币约36.8亿元，还创了日本光刻机行业史上最大亏损纪录。

很多人第一反应是，中国突围光刻机，最先慌的应该是荷兰ASML。

毕竟EUV是它的命根子。结果真相更扎心，ASML还在数钱，日本这位“昔日霸主”先顶不住，不是“被中国打败”，而是“被时代清算”。

想当年，提起光刻机，谁不说一句日本厉害。

2004年之前，尼康一直稳坐全球光刻机市场第一的位置，市场份额远超当时还不起眼的ASML。

那时的尼康，手握核心技术，订单接到手软，全球大部分芯片厂商都要依赖它的设备。

不止尼康，日本佳能也在光刻机领域占据一席之地，两家企业联手，几乎垄断了全球中低端光刻机市场。

那个年代，荷兰ASML还只是飞利浦旗下的小公司，只能在尼康和佳能的夹缝中求生存。

谁也没想到，短短二十年，霸主地位崩塌，亏损成为常态。

尼康的衰落，始于一次关键的技术路线选错。

当年，芯片制造需要更小的线宽，光刻机技术面临瓶颈，193nm波长向157nm波长进军时屡屡受阻。

台积电工程师想出，用水作为介质，实现193nm激光的折射，直接跨越157nm的技术难关。

于是工程师跑遍全球，找尼康、佳能合作，却被两家日本企业直接拒绝。

尼康当时傲慢不已，觉得自己的技术路线才是正确的，不屑于采纳客户提出的建议。

就是这一次拒绝，让尼康彻底错失了翻盘的机会，也给了ASML崛起的空间。

被尼康拒绝后，工程师后来找到了ASML。

彼时的ASML还很弱小，却敏锐地抓住了这个机会，果断和台积电合作，仅用一年就造出了第一台浸没式光刻机样机。

这款设备性价比极高，很快拿下台积电的大额订单，也吸引了IBM、三星等大客户。

更聪明的是，ASML推出“客户联合投资计划”，让台积电、三星、英特尔等企业入股。

这样一来，这些客户不仅会优先采购ASML的设备，还会在技术、资金上提供支持。

ASML加入了由英特尔牵头的EUV研发组织，获得了大量核心技术支持，而尼康和佳能被排除在外。

短短五年，ASML的市场份额就飙升到50%，彻底超越尼康，成为行业新霸主。

看到ASML在EUV领域的垄断地位，尼康也曾试图追赶。

但EUV光刻机技术极其复杂，包含上万个核心零部件，需要全球顶尖供应链的支持。

尼康缺乏核心零部件的供应链，也没有足够的资金持续投入研发，研发过程屡屡受挫。

最终，尼康不得不放弃EUV的研发，转而专注于中低端DUV光刻机市场。

可此时的中低端市场，早已不是当年的格局，ASML也在布局中低端产品，挤压尼康的生存空间。

尼康的中低端光刻机，技术更新缓慢，价格没有优势，慢慢被市场淘汰。

更尴尬的是，它连中低端市场的话语权，都逐渐丧失。

就在尼康节节败退的时候，中国光刻机产业开始发力突围。

2023年，日本主动加码对华半导体设备出口管制，宣布对23种半导体制造设备加强管控，其中就包括用于成熟制程的深紫外光刻机。

而且管控比美国更彻底，直接瞄准了中国已安装设备的维护环节。

他们试图通过备件断供、审批卡壳，让中国的光刻机慢慢失去生产力，进而遏制中国半导体产业的发展。

当时不少外媒都觉得，这步棋能给中国的芯片自给自足计划致命一击，毕竟那时候中国大量使用的深紫外光刻机，核心备件和光刻胶，长期依赖日本供应商。

可日本没算到，这种强硬的管制，反而成了中国光刻机加速突围的催化剂。

中国迅速做出回应，一方面对镓、锗等半导体核心原料实施出口管制。这直接影响了日本半导体企业的原料供应。

另一方面，集中力量推进国产光刻机的研发和量产。

2025年末，中国政府采购网公布的一则采购公告，上海微电子中标了科技部下属实验室的步进扫描式光刻机采购项目，中标金额接近1.1亿元。

这款型号为SSC800/10的光刻机，完全能满足高密度神经电极阵列制造等前沿科研领域的需求。

这标志着中国光刻机真正实现了从技术验证到市场应用的跨越。

在此之前，上海微电子已经实现了90nm ArF光刻机的量产，其SSX600系列光刻机，能满足90nm、110nm、280nm等关键层的光刻工艺需求，适配国内汽车电子、消费电子等领域的成熟制程需求。

中国光刻机的突围，直接冲击了日本企业的市场份额。

2025年上半年，中国从日本进口的半导体设备约合48亿美元，同比下降13.24%，其中光刻机的进口量下滑更为明显。

尼康最新披露的财报显示，预计截至2026年3月的财年，合并最终损益将亏损850亿日元。

日本企业的巨亏，给我们提了一个醒：核心技术从来都不能依赖进口，别人的技术封锁，反而会成为我们自主创新的动力。

当然，我们也不能盲目乐观。

目前，国产光刻机在高端制程领域，和ASML还有明显的代差，EUV光刻机的研发，仍然面临诸多挑战，核心子系统的短板还需要逐步补齐。

但不可否认的是，中国光刻机的突围已经取得了实质性进展，未来，随着国产替代的持续推进，中国在全球半导体领域的话语权，还会进一步提升。