北京
国家知识产权局信息显示，大衍智创（杭州）文化创意有限公司申请一项名为“一种微纳米气泡发生装置”的专利，公开号CN121669032A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开一种微纳米气泡发生装置，属于微纳米气泡发生装置领域，解决了现有的技术缺陷，解决该问题的技术方案主要是包括气液混合管、气泡破碎器、旋流分离器和气泡筛选器，气液混合管沿液体流动方向依次包括进液端、第一喉管、第二喉管和出液端，第一喉管的内径大于第二喉管的内径，气泡破碎器包括气泡破碎管，气泡破碎管内设有若干环形的阻流板，阻流板的表面设有若干凸点和穿孔，旋流分离器包括进液管、分离管和溢流管，气泡筛选器包括接口、第一收集端和第二收集端，所述接口与溢流管可拆卸连接，接口和第一收集端处安装有第一过滤膜和第二过滤膜，第一过滤膜的孔径大于第二过滤膜的孔径。本发明主要用于提高微纳米级别的气泡的生产效率。
天眼查资料显示，大衍智创（杭州）文化创意有限公司，成立于2024年，位于杭州市，是一家以从事娱乐业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，大衍智创（杭州）文化创意有限公司专利信息5条。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
