北京
国家知识产权局信息显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司申请一项名为“一种等离子体处理装置”的专利，公开号CN121641798A，申请日期为2024年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种等离子体处理装置，包括：一真空腔室和位于所述真空腔室内的基座；一介电窗，位于所述真空腔室的顶部，与所述基座相对设置；一线圈，至少部分地位于所述介电窗上方，包括至少两个纵长形的激发段；射频电源，施加射频信号至所述线圈，使得所述两个激发段的电流方向相同，旋转驱动装置，用于驱动所述线圈和/或所述基座转动，使得所述线圈和所述基座在工艺过程中可相对旋转。本发明设置的线圈结构可以提高电磁场分布的均匀性以及射频电源的利用效率。
天眼查资料显示，中微半导体设备（上海）股份有限公司，成立于2004年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本62614.5307万人民币。通过天眼查大数据分析，中微半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了29家企业，参与招投标项目78次，财产线索方面有商标信息76条，专利信息1654条，此外企业还拥有行政许可77个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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