北京
国家知识产权局信息显示，铠欣半导体（苏州）有限公司申请一项名为“钽-碳化钽复合涂层的石墨器件及其流量波动制备法”的专利，公开号CN121593023A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明属于化学气相沉积（CVD）技术领域，具体涉及一种钽‑碳化钽复合涂层的石墨器件及其流量波动制备法。该方法首先在石墨基体表面通过周期性流量波动CVD技术沉积钽金属缓冲层，然后在缓冲层上同样采用流量波动技术控制并沉积碳化钽涂层。本发明通过钽缓冲层有效缓解了膜基热失配应力，并结合流量波动通过循环切换高、低不同流量的工艺，协同提高了涂层的结合强度、致密性、韧性及抗热震性能，解决了传统碳化钽涂层易开裂、剥落的技术难题。本发明还提供了由该方法制备的具有长寿命和高可靠性的石墨器件。
天眼查资料显示，铠欣半导体（苏州）有限公司，成立于2024年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，铠欣半导体（苏州）有限公司参与招投标项目3次，专利信息1条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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