北京
国家知识产权局信息显示，珠海宝丰堂半导体股份有限公司申请一项名为“一种常压宽幅等离子处理设备”的专利，公开号CN121551334A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种常压宽幅等离子处理设备，包括固壳，所述固壳的本体上设置有宽幅机构，所述宽幅机构包括两个宽幅电极，两个所述宽幅电极呈半圆形，且两个宽幅电极相互贴合拼装成圆柱，两个所述宽幅电极的外弧面均固定连接有绝缘板，两个所述宽幅电极的本体均开设有轴向贯通的冷却孔，所述圆柱的两端均固定连接有气罩，所述气罩的内部分别与两侧冷却孔的内部相连通，两侧所述气罩的内部均贯穿连通有固管，涉及等离子清洗设备技术领域，解决了现有常压等离子设备的宽幅电极使用时，容易影响气体流动，以及无法使得气体充分离子化，同时在持续使用时，无法得到及时、有效地散热，从而影响设备正常使用的问题。
天眼查资料显示，珠海宝丰堂半导体股份有限公司，成立于2006年，位于珠海市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本4938万。通过天眼查大数据分析，珠海宝丰堂半导体股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目36次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息55条，此外企业还拥有行政许可24个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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