ASML的阳谋：将EUV产能提升50%，逼台积电花3000亿换新光刻机

EUV光刻机诞生已经有十多年了，这十多年间，其实更新了N代，当然如果按照技术层级来看，至少也更新了两代。

第一代是NA=0.33的普通EUV光刻机，而第二代则是NA=0.55的High EUV光刻机。

按照ASML的规划，NA=0.33的普通光刻机，用到3nm芯片时就差不多了，最多达到2nm芯片，然后就要换成NA=0.55的High EUV光刻机。

在此之后，ASML还计划推出NA=0.75的Hyper EUV系统，一代又一代的升级，让晶圆厂们跟着不断的换代。

因为NA更大，所以分辨率更高，制造芯片的精度更高，这样像台积电、三星、英特尔等厂商，就会不断的更换EUV光刻机。

但没有想到的是，才发展到第二代NA=0.55时，台积电就不太想换EUV光刻机了，觉得使用NA=0.33的就行，宁愿多一重曝光。

为何台积电不愿意换，因为成本太高了，台积电目前有上百台的EUV光刻机，而High EUV一台是4亿多美元，全部换掉就是400多亿，就是近3000亿元。

台积电当然不想花这个成本啊，所以台积电之前就表态称，2nm肯定用NA=0.33的就行，1.4nm也用NA=0.33的EUV就成，至于以后的事，以后再说。

但话里话外就一个意思，能不用，我就坚决不用，3000来亿元的投入，你以为是3000块啊，台积电再也不用，也不会这么乱搞。

这对于ASML而言，当然就不是好消息了，普通EUV的钉子户肯定不是ASML喜欢的，当然要想办法逼着台积电换机器了。

既然提高NA已经不让台积电动心了，那想什么办法呢，最近ASML想到了，那就是提高EUV的产能。

按照ASML的说法，他们有了新的突破，接下来可以将EUV光刻机的光源从600W提高至1000W，然后让晶圆处理速度提高50%，从原来的220片每小时，提升至330片每小时。

很明显，这就是ASML的阳谋，逼着台积电等厂商，淘汰掉旧的EUV光刻机，换成新的EUV光刻机，因为产能高50%这个诱惑真的太大了，这么一提升，相当于成本降30%左右啊。

如果台积电不换，英特尔、三星等换了，然后成本降30%，那台积电怎么办？就没有竞争优势了啊。

当然，ASML也在探台积电们的口风，所以没说一下子就实现到位，说要到2030年才能全部落实到位，这中间是有玄奥的。

如果台积电们表示对这个技术感兴趣，有这样的新光刻机，那么自己就要买，ASML当然是抓紧时间早点落地，让台积电们买。

但如果台积电们同样不感兴趣，觉得产能慢一点也无怕谓，因为投入几千亿来换EUV划不来，那么ASML可能就又会想其它招，反正就是要逼着这些老款EUV钉子户换机器，否则自己怎么赚钱？