北京
国家知识产权局信息显示，宁波锦辉光学科技股份有限公司申请一项名为“一种真空镀膜方法及系统”的专利，公开号CN121555975A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明公开了一种真空镀膜方法及系统。所述系统包括依次连通的第一溅射腔室、第一真空传输通道、CVD腔室、第二真空传输通道及第二溅射腔室。本发明利用基片在第一真空传输通道内移动时形成的流阻节流效应，在第一溅射腔室与CVD腔室之间建立压力梯度，驱动CVD腔室内的活性等离子体形成指向第一溅射腔室的逆向射流，对基片表面的第一金属层进行原位杂化反应，从而构建出梯度过渡层。本发明摒弃了物理闸阀，消除了微粒污染，显著提升了HUD反射镜膜层的结合力与耐候性。
天眼查资料显示，宁波锦辉光学科技股份有限公司，成立于2017年，位于宁波市，是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本6262.781万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波锦辉光学科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目24次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息132条，此外企业还拥有行政许可18个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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