北京
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国家知识产权局信息显示，易客发有限公司申请一项名为“浮雕形成版前体”的专利，公开号CN121532708A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种改进的掩模形成膜，其特征在于具有高的IR敏感度和高UV密度，结合改善的外观和物理性质；和用于使用该膜制备浮雕形成前体的改进的方法。所述掩模形成膜具有的特定特征在于其包含包括聚硅氧烷化合物的涂层。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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