北京
国家知识产权局信息显示，上海传芯半导体有限公司申请一项名为“反射型EUV掩模板及其制造方法”的专利，公开号CN121522947A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，一种反射型EUV掩模板及其制造方法，该反射型EUV掩模板包括：透明基板、反射膜、保护层和图案化的吸收层，透明基板的一侧表面设置有反射膜，反射膜具有多层钼硅交替层，保护层设置在反射膜上，图案化的吸收层设置在保护层上，图案化的吸收层具有倾斜侧壁，且由图案化的吸收层的上表面至反射膜的表面，图案化的吸收层的宽度逐渐变窄。本发明的反射型EUV掩模板能够优化光路效率、提高反射强度并有效改善成像分辨率，具有反射强度高、成像分辨率高的有益效果。相应地，本发明还提供一种反射型EUV掩模板的制造方法。
天眼查资料显示，上海传芯半导体有限公司，成立于2020年，位于上海市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本9376.6144万人民币。通过天眼查大数据分析，上海传芯半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息123条，此外企业还拥有行政许可17个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
