北京
国家知识产权局信息显示，重庆莱宝科技有限公司申请一项名为“一种宽光谱抗反射膜层及其制备方法”的专利，公开号CN121522786A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种宽光谱抗反射膜层及其制备方法。一种宽光谱抗反射膜层，包括依次层叠设置的第一高折射材料层、第一低折射材料层、第二高折射材料层、第二低折射材料层、第三高折射材料层和第三低折射材料层，宽光谱抗反射膜层的总厚度在200nm以上；各材料层的厚度依次为10~12nm、30~35nm、25~35nm、15~25nm、25~30nm和90~100nm。本发明的宽光谱抗反射膜层，高折射率材料层和低折射率材料层的交替设置，各层的适宜厚度相互配合，使触摸屏的光线经过光的干涉相消，可有效降低玻璃表面的反射率，使反射膜层在宽光谱中具有超低总成反射率。
天眼查资料显示，重庆莱宝科技有限公司，成立于2011年，位于重庆市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，重庆莱宝科技有限公司参与招投标项目21次，专利信息178条，此外企业还拥有行政许可64个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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