北京
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国家知识产权局信息显示，AP系统股份有限公司申请一项名为“溅镀设备”的专利，公开号CN121519003A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，本公开涉及一种溅镀设备。根据本公开实施例的溅镀设备包括：腔室，被配置成提供处理空间；支撑件，设置在处理空间中以对衬底进行支撑；溅镀靶单元，被设置成面对所述支撑件；射频功率供应单元，被配置成向溅镀靶单元供应射频功率；以及第一电极单元，被配置成从射频功率供应单元接收射频功率，以将所述射频功率传送到溅镀靶单元。溅镀设备能够通过稳定地供应电力而将薄膜均匀地沉积在衬底上。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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