北京
国家知识产权局信息显示，合光光掩模科技（安徽）有限公司申请一项名为“光掩模位置精度的补偿方法”的专利，公开号CN121500663A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供了一种光掩模位置精度的补偿方法，包括：提供一光掩模，扫描光掩模以获得光掩模的位置精度分布图，在位置精度分布图中标注畸变区、核心功能区和外围区；建立基于距离衰减的权重分配模型，给核心功能区分配第一权重值，给外围区按距离衰减分配第二权重值，给畸变区分配第三权重值，第一权重值大于第二权重值和第三权重值；建立补偿模型，将权重分配模型的权重分配结果融入补偿模型中，以获得补偿系数；将补偿系数导入电子束曝光控制系统中，在利用电子束曝光控制系统制备光掩模时进行实时的位置精度补偿，以制备获得补偿后的光掩模。本发明在保证光掩模全版面的补偿稳定性的情况下，提升核心功能区的补偿精度。
天眼查资料显示，合光光掩模科技（安徽）有限公司，成立于2023年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本190995.68万人民币。通过天眼查大数据分析，合光光掩模科技（安徽）有限公司参与招投标项目150次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息25条，此外企业还拥有行政许可19个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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