北京
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国家知识产权局信息显示，三星显示有限公司申请一项名为“薄膜沉积设备”的专利，公开号CN121496358A，申请日期为2025年8月。
专利摘要显示，薄膜沉积设备包括支撑基底的支撑件、以及包含沿着平行于支撑件的主表面的第一方向布置的第一喷射区段和第二喷射区段的喷射单元。在喷射单元中，第一喷射区段配置为将源气体喷射到基底的一个表面上并排出源气体，并且第二喷射区段配置为将反应气体喷射到基底的一个表面上并形成等离子体。从第二喷射区段喷射的反应气体流过基底的一个表面并通过第一喷射区段排出。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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