北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于清洁光刻设备的诸如夹具掩模版接触区域的一部分的系统和方法”的专利，公开号CN121511427A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种用于原位清洁光刻设备的夹具的系统，该系统包括：主体，该主体被配置为插入光刻设备中并与夹具接合，其中清洁特征布置在主体的面向夹具的表面上；夹具的移动系统；以及控制系统；其中控制系统被配置为：控制夹具以使用第一夹持力来使主体与夹具接合；控制移动系统以在施加第一夹持力的情况下以振荡移动方式移动夹具，其中第一夹持力基本上防止清洁特征与夹具之间的相对移动；以及控制夹具以将第一夹持力改变为第二夹持力，第二夹持力弱于第一夹持力，使得响应于振荡移动而发生清洁特征与夹具之间的相对移动。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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