北京
国家知识产权局信息显示，杭州富芯半导体有限公司申请一项名为“一种光学临近效应修正方法”的专利，公开号CN121500680A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种光学临近效应修正方法，包括：选择包含目标图形层与孔层的原始版图层，根据所述目标图形层与所述孔层的位置关系寻找所述目标图形层中的异常边；将所述异常边沿垂直于所述异常边且远离所述目标图形层的方向移动第一设定距离；将所述目标图形层中的每条边沿垂直于该条边且靠近所述目标图形层的方向移动第二设定距离，得到OPC修正目标图形层；对OPC修正目标图形层进行迭代。本发明可以减少贴边孔，解决工艺偏差时对目标图形层进行全局移动时导致包孔不全的问题，同时也解决了孔在转角或线端时造成的包孔不全的问题，由此提高产品的稳定性和电学特性。
天眼查资料显示，杭州富芯半导体有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本945000万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州富芯半导体有限公司参与招投标项目36次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息360条，此外企业还拥有行政许可27个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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