北京
国家知识产权局信息显示，金宏气体股份有限公司申请一项名为“高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法”的专利，公开号CN121499702A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法。该分析系统包括第一十通阀、第一定量管、第一色谱柱、第一六通阀、第二定量管、第二色谱柱、第二六通阀、第一PDD检测器、第三色谱柱、第二十通阀、第三定量管、第四色谱柱、第三六通阀、第五色谱柱和第二PDD检测器。本发明的高纯乙硅烷中杂质的分析系统和分析方法采用五阀五柱、双检测器的配置模式，将不同杂质分配在不同的检测器上进行，通过控制多通阀的工作状态并调控切阀时间，实现同一气路进样，多气路分离及分析，从而在一次分析过程中就可以得到样品气中所有杂质的分析结果并且还能反吹出主组分或者硅烷类杂质，去除主峰背景的干扰，提高了分析过程的效率及准确性。
天眼查资料显示，金宏气体股份有限公司，成立于1999年，位于苏州市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本48197.76万人民币。通过天眼查大数据分析，金宏气体股份有限公司共对外投资了70家企业，参与招投标项目204次，财产线索方面有商标信息105条，专利信息510条，此外企业还拥有行政许可742个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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