北京
国家知识产权局信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“曝光调整方法及相关装置、摄像机和存储介质”的专利，公开号CN121509824A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请公开了一种曝光调整方法及相关装置、摄像机和存储介质，其中，曝光调整方法包括：基于摄像机的当前拍摄图像进行检测，响应于检测结果表征为第一部位、第二部位均出现于当前拍摄图像且第一部位位于预设识别区域；基于第一部位的检测置信度和当前拍摄图像的环境光强度，得到第一权重因子，并基于检测置信度和第二部位的部位状态评分，得到第二权重因子，以及基于第一权重因子、第二权重因子分别对当前拍摄图像中第一部位的第一亮度、第二部位的第二亮度进行加权，得到第一曝光参数；基于第一曝光参数，控制摄像机进行曝光调整。上述方案，能够提升曝光调整的兼容性，特别是在存在两种生物部位的情况下。
天眼查资料显示，浙江大华技术股份有限公司，成立于2001年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本328675.5574万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江大华技术股份有限公司共对外投资了71家企业，参与招投标项目5000次，财产线索方面有商标信息306条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可407个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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