北京
国家知识产权局信息显示，原子高科股份有限公司申请一项名为“用于制备α平面源的电沉积装置”的专利，公开号CN121496536A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及放射源技术领域，提供一种用于制备α平面源的电沉积装置，包括：底座、棘轮组件、固定套、电镀槽、多个连接杆和多个棘爪组件；棘轮组件与底座转动连接；固定套套设于棘轮组件外；电镀槽套设于定位柱外，电镀槽靠近底座的一端设有环形凸沿，环形凸沿套设于固定套外；连接杆的一端延伸至固定套内；多个棘爪组件沿电镀槽的圆周方向环形设置，每个棘爪组件的第一端与一个连接杆连接；棘轮组件沿第一方向转动时，棘爪组件的第二端与环形凸沿抵接；棘轮组件沿第一方向的相反方向转动时，棘爪组件的第二端与环形凸沿分离。上述的用于制备α平面源的电沉积装置，缩短了装卸时间，提升了生产效率，装卸不需要工具，操作简单。
天眼查资料显示，原子高科股份有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本16178.4136万人民币。通过天眼查大数据分析，原子高科股份有限公司共对外投资了50家企业，参与招投标项目3482次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息357条，此外企业还拥有行政许可44个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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