国家知识产权局信息显示,原子高科股份有限公司申请一项名为“用于制备α平面源的电沉积装置”的专利,公开号CN121496536A,申请日期为2025年11月。
专利摘要显示,本发明涉及放射源技术领域,提供一种用于制备α平面源的电沉积装置,包括:底座、棘轮组件、固定套、电镀槽、多个连接杆和多个棘爪组件;棘轮组件与底座转动连接;固定套套设于棘轮组件外;电镀槽套设于定位柱外,电镀槽靠近底座的一端设有环形凸沿,环形凸沿套设于固定套外;连接杆的一端延伸至固定套内;多个棘爪组件沿电镀槽的圆周方向环形设置,每个棘爪组件的第一端与一个连接杆连接;棘轮组件沿第一方向转动时,棘爪组件的第二端与环形凸沿抵接;棘轮组件沿第一方向的相反方向转动时,棘爪组件的第二端与环形凸沿分离。上述的用于制备α平面源的电沉积装置,缩短了装卸时间,提升了生产效率,装卸不需要工具,操作简单。
天眼查资料显示,原子高科股份有限公司,成立于2001年,位于北京市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本16178.4136万人民币。通过天眼查大数据分析,原子高科股份有限公司共对外投资了50家企业,参与招投标项目3482次,财产线索方面有商标信息8条,专利信息357条,此外企业还拥有行政许可44个。
声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。
本文源自:市场资讯
作者:情报员
特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布,本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.