北京
国家知识产权局信息显示，常州第六元素半导体有限公司申请一项名为“一种双面卷式制备多层石墨烯薄膜的方法及一种多层石墨烯膜”的专利，公开号CN121470480A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种石墨烯膜的制备方法，具体涉及一种双面卷式制备多层石墨烯薄膜的方法。本发明公开了一种双面卷式制备多层石墨烯薄膜的方法，包括以下步骤：（1）将金属基底与柔性多孔隔离材料围绕卷心交替绕卷；（2）使用还原性气体对金属基底/柔性多孔隔离材料卷材进行高温退火；（3）退火结束后，通入碳源气体/还原性气体混合气体于低压条件下在金属基底两侧同步进行首层石墨烯膜生长；（4）首层石墨烯膜生长结束后，通入氧化性气体对金属基底两侧的石墨烯薄膜进行刻蚀；（5）刻蚀结束后，通入碳源气体/还原性气体混合气体，进行石墨烯膜的生长；（6）重复步骤（4）和步骤（5）N次，得到N+2层的石墨烯薄膜。
天眼查资料显示，常州第六元素半导体有限公司，成立于2018年，位于常州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，常州第六元素半导体有限公司专利信息139条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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