北京
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国家知识产权局信息显示，武汉亿纬储能有限公司申请一项名为“一种涂胶缺陷检测方法及电子设备”的专利，公开号CN121481921A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供一种涂胶缺陷检测方法及电子设备，属于电池领域。其中，该方法包括：获取涂胶区域中胶体的三维扫描数据，以及包含胶体表面纹理的图像数据；基于所述三维扫描数据以及所述图像数据，确定涂胶缺陷。该方法，可综合考虑胶体、胶层的三维特征，以及包含胶体纹理色彩特征的图像数据，能够尽可能降低反光造成的干扰，且能识别颜色异常，进而可提升缺陷检测的准确度与精度。
天眼查资料显示，武汉亿纬储能有限公司，成立于2018年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本8177.43万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉亿纬储能有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目24次，专利信息1198条，此外企业还拥有行政许可10个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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