北京
国家知识产权局信息显示，上海新毅东半导体科技有限公司取得一项名为“狭缝装置和光刻系统”的专利，授权公告号CN223883912U，申请日期为2025年3月。
专利摘要显示，本实用新型涉及光刻技术领域，公开了一种狭缝装置和光刻系统，该狭缝装置包括基座和刀片组件。刀片组件包括垂直连接的第一刀片和第二刀片。刀片组件设置有两组，每组刀片组件沿第一方向和第二方向可移动地连接于基座；两个第一刀片和两个第二刀片围设形成大小可调的矩形狭缝窗口，第一方向和第二方向呈夹角设置。本实用新型通过在基座上设置两组刀片组件，每组刀片组件均包括垂直连接的第一刀片和第二刀片，且第一刀片和第二刀片同时移动，能够始终保证相邻两个刀片的垂直度，有利于四个刀片之间的垂直度，使得两个第一刀片和两个第二刀片围设的矩形狭缝窗口，平行度、垂直度误差更小，提高了矩形狭缝窗口的精确度。
天眼查资料显示，上海新毅东半导体科技有限公司，成立于2022年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新毅东半导体科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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