北京
国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种红外探测器及其制备方法”的专利，公开号CN121463590A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请公开了一种红外探测器及其制备方法，涉及红外探测器技术领域。制备方法包括：提供一读出电路晶圆；在读出电路晶圆的顶面沉积牺牲层，并对牺牲层依次进行光刻处理、沉积处理以及刻蚀处理，制备获得具有支撑层的第一半导体器件；在支撑层上依次沉积第二金属层和第三金属层；在第三金属层上沉积预设厚度的保护层，并利用第一掩膜版对保护层进行光刻处理和刻蚀处理，制备获得刻蚀保护层；利用第二掩膜版对第三金属层进行光刻处理和刻蚀处理，制备获得刻蚀金属层；利用第三掩膜版对第二金属层进行光刻处理和刻蚀处理，制备获得红外探测器。本申请中工艺路线简化、过程冗余减少，使得整体生产效率提升、生产成本降低。
天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目487次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息818条，此外企业还拥有行政许可47个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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