北京
国家知识产权局信息显示，浙江朗德电子科技有限公司申请一项名为“一种加热式硅基气体传感器及其制备方法”的专利，公开号CN121431610A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本申请涉及气体传感器技术领域，提出一种加热式硅基气体传感器及其制备方法。该加热式硅基气体传感器包括绝缘体上硅晶圆、热源层及气敏功能层。绝缘体上硅晶圆包括由下至上层叠设置的硅衬底层、埋氧层及硅基层。硅基层被刻蚀至露出埋氧层以形成硅纳米线沟道，硅纳米线沟道包括多个彼此间隔的硅纳米线及位于相邻硅纳米线之间的沟槽。热源层连续式填充于多个沟槽，充于多个沟槽的热源层彼此连通。气敏功能层形成于硅纳米线沟道上。本申请能够对工作区域进行高效、均匀的加热，提高了热效率与热稳定性，降低了功耗。利用埋氧层进行热隔离，有效减少了热量损失。并且减小了传感器的整体占用面积，提高了集成度。
天眼查资料显示，浙江朗德电子科技有限公司，成立于2014年，位于嘉兴市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1322万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江朗德电子科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息60条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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