北京
国家知识产权局信息显示，联影越质科学仪器（武汉）有限公司申请一项名为“离子调控装置、离子引导装置、控制方法、装置、设备及离子引导系统”的专利，公开号CN121439669A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本申请提供的一种离子调控装置、离子引导装置、控制方法、装置、设备及离子引导系统，通过设置第一引导元件和偏转力场生成模块，在离子注入所述第一引导元件的情况下，控制所述第一引导元件施加与离子传输方向反向的反向电场，从而将离子捕获在第一引导元件内；控制所述偏转力场生成模块工作，以使所述第一引导元件内的所述离子产生径向偏移；在偏移完成的情况下，控制所述第一引导元件撤销所述反向电场，以使所沿传输方向运动，能够通过偏转力场生成模块使第一引导元件内的离子产生径向偏移，能让离子在径向方向上更均匀地分布，从而提高空间区域利用率，减小空间电荷效应的影响。
天眼查资料显示，联影越质科学仪器（武汉）有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，联影越质科学仪器（武汉）有限公司专利信息11条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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