北京
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国家知识产权局信息显示，常州第六元素半导体有限公司申请一项名为“一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法及一种石墨烯膜”的专利，公开号CN121426103A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及一种石墨烯膜的制备方法，具体涉及一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法。本发明公开了一种双面卷式制备单层石墨烯膜的方法，包括以下步骤：（1）将金属基底与柔性多孔隔离材料围绕卷心交替绕卷，形成层叠结构的金属基底/柔性多孔隔离材料卷材；（2）使用还原性气体对金属基底/柔性多孔隔离材料卷材进行高温退火；（3）退火结束后，通入还原性气体/碳源气体混合气体在金属基底两侧同步进行石墨烯膜生长，生长阶段压力控制在500Pa以内。
天眼查资料显示，常州第六元素半导体有限公司，成立于2018年，位于常州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本3000万人民币。通过天眼查大数据分析，常州第六元素半导体有限公司专利信息136条，此外企业还拥有行政许可4个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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