北京
国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“微光刻投射曝光设备中的组件”的专利，公开号CN121444012A，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本发明涉及一种微光刻投射曝光设备中的组件，其中该组件（100、200、300、400）包含：光学元件（101、201、301、401）；至少一个重量补偿装置（110、210、310、410），其具有用于产生磁场的无源磁路（111、211、311、411），该磁场产生用于至少部分补偿作用在光学元件上的重力的力；以及有源部件，其用于产生传递到光学元件的主动可控力，其中该至少一个重量补偿装置（110、210、310、410）经由以铰接方式安装的销（115、215、315、415）联接到光学元件（101、201、301、401）；以及至少三个洛伦兹致动器（120、130、220、230、320、330、340、420、430、440），每个洛伦兹致动器被设计用于在光学元件上施加可控力，其中这些洛伦兹致动器中的至少一个直接固定到光学元件。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
