时隔14年之后推出新光刻机，日本企业开始对成熟芯片产业进行围剿

前沿导读

据《日经中文网》新闻指出，日本光刻机厂商佳能准备在2026年发售新一代的KrF光刻机设备，该设备的晶圆处理效率为每小时400片以上，相较于上一代设备提升了30%。这是时隔14年之后，佳能首次对制造成熟芯片的光刻机进行技术升级，并且佳能宣布随后会继续推出更先进的AfF干式光刻机设备，其主要目标就是抢占成熟芯片市场。

参考资料：
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设备竞争

据《中商产业研究院》所整理的数据显示，在全球光刻机市场当中，ASML掌控着62%的总市场份额，其次是佳能占比31%，最后是尼康占比7%。

在所售光刻机当中，销量最多的是248nm波长的KrF光刻机，其次是更古老的365nm波长i线设备。而193nm波长的先进ArF光刻机，以及13.5nm波长的EUV光刻机，加在一起也只有22.7%的总数量占比。

参考资料：
2025年中国光刻机产业链图谱及投资布局分析（附产业链全景图）-中商情报网

从整体的市场销售来看，ASML掌握着绝对话语权，在先进设备领域几乎没有对手。虽然EUV光刻机的销量只有总产业销量的7.2%，但是其创造的利润价值是无法估量的数值。

佳能凭借着纳米压印技术在存储芯片领域占据一定市场，也因为佳能选择押注纳米压印技术，所以佳能到目前为止并没有ArF光刻机，只有一些技术成熟的KrF和i线设备。

尼康则是与佳能相反，并没有跟佳能一样走纳米压印路线，反而是跟随ASML采用ArF浸润式技术。不过由于尼康总部的决策速度太慢，导致ASML已经在ArF领域取得了绝对统治权，尼康现在的光刻机销量绝大部分都是本土企业或者海外的合资工厂所采购，市场空间极其有限。

据《佳能中国》资料显示，佳能曾在2021年的上海半导体展会上面发布了多款光刻机产品。其中包括了i线光刻机和KrF光刻机，可以制造功率器件、通信器件等多种半导体产品。同时还发布了应用于封装环节的i线步进光刻机、制造显示面板的光刻机，以及佳能安内华公司提供的配套零部件。

参考资料：
佳能亮相半导体产业盛会FPD/SEMICON China 2021

彼时的中国芯片产业已经被美国封锁了EUV光刻机和相关的制造设备，中国本土的光刻技术无法满足于国内企业的需要，产业出现了技术断层。佳能在这个时期向中国市场上投放大量制造设备，一方面可以有效解决中国芯片产业缺少设备的困境，另一方面也可以借此机会通过中国市场来赚取利润，吃掉一部分本该属于ASML的市场空间。

成熟芯片

2024年9月，中国工信部正式对外公布了中国新一代光刻机设备的技术指标。总共有两种新设备，一种是248nm波长的KrF氟化氪光刻机，一种是193nm波长的干式ArF氟化氩光刻机，其干式ArF光刻机的硬件水平相当于ASML在2015年推出XT：1460K。

这两款产品的发布，标志着中国光刻机产业迎来了新一轮的技术更新。虽然整体的技术指标对比ASML的产品差距很大，但是对于销售成熟节点光刻机的尼康和佳能来说，有着直接冲击。

根据佳能工业部门的资料显示，除纳米压印光刻机之外，在传统光刻机领域，佳能最先进的i线光刻机为FPA-5550iZ2，分辨率350nm，套刻精度25nm。最先进的KrF光刻机为FPA-6300ES6a，分辨率为90nm，套刻精度为5nm。

虽然佳能KrF设备的套刻精度比中国光刻机更高，但是其设备的分辨率要比中国光刻机低很多。从技术与商业的两个维度看，佳能的i线设备与KrF设备，均已经在技术指标上被中国公布的国产光刻机赶超。

ASML统治着先进光刻机市场，尼康凭借着略差一些的ArF光刻机也可以维持市场，现在只剩下佳能徘徊在产业边缘。

佳能所持有的纳米压印设备由于其技术特殊性，目前只被用于制造存储芯片和特色工艺芯片，无法应用到逻辑芯片上，而佳能出货量最多的i线和KrF设备，又被中国制造的光刻机所赶超。

如果佳能拿不出水平更高的传统设备去抢占市场，那么等中国光刻机在国际市场上全线铺开，佳能所面临的抉择只有两个，要么将传统设备市场让给其他企业，要么拿出更高水平的设备打败对方。