光刻机国产28nm落地了，朱士尧说“永远造不出”，到底谁在说真话

最近身边好几个学微电子的哥们儿都去上海微电子实习了，不是去吹牛的，是真蹲产线调参数。他们说，2025年底那会儿，第一台28nm DUV光刻机在中芯北京厂跑通了整条流片，良率从72%拉到89%，不是PPT里的数字，是每天三班倒实打实测出来的。没人喊“突破封神”，但设备开机率稳定在94.3%，比去年进口二手机还高一点。

朱士尧那句话传开后，网上吵翻天。一边说“他懂行，光刻机是工业皇冠，不是焊两根线就能搞定”，另一边说“你连国产镜头都没摸过，凭啥断言永远？”其实两头都没错，只是站的位置不一样。他讲的是EUV整机——蔡司镜片要磨到皮米级，相当于把整个中国地形图摊开，误差不能超过一根头发丝的十万分之一；我们讲的是DUV系统——上海微电子的机子，镜头是茂莱光学做的，光源是福晶科技掺钕钇铝石榴石晶体+自研腔体，光路控制软件是哈工大团队写的，国产化率85.7%，小数点后一位都是实测填进去的。

这不是拼谁零件多，是拼谁能把一堆“勉强能用”的东西，调成“连续三个月不掉线”。比如南大光电的KrF光刻胶，一开始显影不均，厂里工程师直接带着胶液住进中芯净化间，七天换了31版配方，最后胶膜厚度误差压到±0.8nm。这活没人教，手册上没写，靠的就是人盯机、机带人、人再改机，一圈圈磨出来。

美国那边呢？ASML自己也承认，EUV光源用的锡靶材，高纯氟气管路里的阀门，一半靠日本精工，一半靠中国供应商。去年底他们开会专门提了一句：“氟化物供应链风险评级上调至橙色。”这话没上新闻，但在业内传开了。不是我们卡别人脖子，是有些东西，天然就长在中国的土地上——内蒙古的氟化钙矿，江西的高纯氟气提纯技术，云南的稀土永磁，全卡在光刻机冷却电机和精密位移台上。

高校也在变。中科大前年新开“光刻系统工程”课，第一节课不是讲麦克斯韦方程，是带学生坐高铁去无锡看国产真空泵怎么接进光刻机腔体。老师说：“公式背得再熟，拧错一颗M3螺栓，整台机子真空度就掉两个数量级。”今年应届生里，选这个方向的比去年多四成，简历里不再只写“熟悉Python”，而是“参与过浸没系统液面稳定性测试”。

很多人以为光刻机就该长得像ASML那样——三楼高的银灰大柜子，走道里全是德语标签。但我们这台28nm机，外壳是国产不锈钢，散热用的是河北产的微通道冷板，控制柜风扇换成了深圳厂家定制的无刷静音款。它不漂亮，但半夜三点报警灯亮了，技工老张摸黑换板卡，五分钟搞定。这种稳，不是实验室里调出来的，是每天24小时、每月26天、连续11个月没停过产线熬出来的。

有次我在上海微电子门口买咖啡，碰见一个穿工装裤的年轻人，拎着工具箱往里走。我随口问：“你们现在最难的是啥？”他拧开瓶盖喝口水说：“不是缺技术，是缺时间——新零件来了，得立刻上机测；测完不行，当天改图，第二天加工，后天再装。没时间等‘完美方案’，只有‘今天必须转起来’。”

大基金三期的钱，真没砸在买设备上，而是投在了山东一家做超净阀门的小厂，投在了成都一个专攻真空法兰密封圈的博士团队，投在了绍兴一家连官网都没有、但能把氦检漏精度做到1×10⁻¹² Pa·m³/s的作坊式车间。这些名字你没听过，但它们的零件，正一颗颗拧进国产光刻机的血管里。

有人说，这台机子不是EUV，不配叫“突破”。可芯片不认牌照，只认良率。中芯拿它量产电源管理芯片，华为拿它流片车载MCU，比亚迪拿它做电池BMS主控——这些不是“退而求其次”，是实实在在正在用的东西。

现在车间墙上贴着一张纸，上面是2025年12月的故障记录：共17次报警，14次自主恢复，剩下3次平均修复时间23分钟。下面一行小字写着：“目标：2026年平均修复时间＜18分钟。”

光刻机没那么玄，它就是一堆会动的金属、玻璃和代码，人盯紧了，它就转。人松手了，它就停。

它已经转起来了。