北京
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国家知识产权局信息显示，FEI公司申请一项名为“用于带电粒子显微镜法的减法缺陷定位”的专利，公开号CN121391699A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，用于带电粒子显微镜法的减法缺陷定位。提供了用于促进用于带电粒子显微镜法的减法缺陷定位的系统/技术。在各种实施方案中，一种系统可访问由带电粒子显微镜捕获的图像，其中该图像描绘样本。在各种方面，该系统可基于执行第一机器学习模型来定位该样本的感兴趣结构的一个或多个有缺陷实例化，该第一机器学习模型被训练成定位该感兴趣结构的无缺陷版本。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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