北京
分享至
国家知识产权局信息显示，美光科技公司申请一项名为“半导体装置”的专利，公开号CN121397998A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体装置。一种设备包含：衬底；第一区，其在所述衬底上；第二区，其在所述衬底上；至少一个第一晶体管，其包含设置在所述第一区中的第一栅极结构；至少一个第二晶体管，其包含设置在所述第二区中的第二栅极结构；三棱柱形侧壁，其在所述第二栅极结构的两侧上；以及应力膜，其覆盖在所述第一栅极结构上方而没有三棱柱形侧壁的介入。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
