北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于制造光学装置结构的方法”的专利，公开号CN121399511A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，用于形成波导的方法和设备。一个示例波导通常包括基板、设置于基板的第一表面上方的第一装置层、设置于基板的第二表面上方的第二装置层、设置于第一装置层上方的第一光栅、和设置于第二装置层上方的第二光栅，所述第一光栅包括在第一方向上布置的多个第一闪耀装置结构。每个第一闪耀装置结构通常包括多个阶梯、与第一装置层的主表面平行的所述多个阶梯中的每个阶梯的刻面法线、和由闪耀表面和刻面法线定义的闪耀角。第二光栅通常包括在第二方向上布置的多个第二闪耀装置结构，其中第二方向与第一方向不同。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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