北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“用于电子制造系统的腔室的远程等离子体清洁”的专利，公开号CN121366850A，申请日期为2021年3月。
专利摘要显示，一种清洁用于电子制造系统的腔室的方法包括使包含氧气和载气的气体混合物流入远程等离子体产生器中。方法进一步包括通过远程等离子体产生器由气体混合物产生等离子体并且通过使等离子体流入腔室的内部体积中来执行腔室的远程等离子体清洁，其中等离子体从腔室移除复数种有机污染物。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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