北京
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国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“用于沉积含金属层的方法和系统”的专利，公开号CN121362962A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，本公开涉及用于通过选择性沉积过程在衬底上沉积含金属材料的方法和设备。该方法包括在反应室中提供衬底，以气相将金属醇盐前体提供到反应室中；以及以气相将第二前体提供到反应室中以在衬底上形成含金属材料。根据本公开的第二前体包括硼烷化合物，并且衬底包括第一表面和第二表面。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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