北京
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国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种C形密封圈、阀门及C形密封圈的生产模具”的专利，公开号CN121345994A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明提供了一种C形密封圈、阀门及C形密封圈的生产模具。C形密封圈第一端被安装于第一密封件的密封槽，而其第二端接触第二密封件，其特征在于，所述C形密封圈的径向截面为第二端开口的C形，并具有至少一个连通所述C形密封圈内部与外部真空环境的径向通气孔。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目26次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息440条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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