北京
国家知识产权局信息显示，上海未来企业股份有限公司申请一项名为“基于新型荧光共聚物的自示踪型阻垢缓蚀剂及制备方法”的专利，公开号CN121342235A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明涉及水处理领域，公开了基于新型荧光共聚物的自示踪型阻垢缓蚀剂及制备方法，该阻垢缓蚀剂包含以下组分：新型荧光共聚物，辅助聚合物，常规AMPS共聚物，有机膦酸盐，锌盐，以及余量的水。新型荧光共聚物是通过将荧光单体B、丙烯酸和2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸进行共聚反应得到；荧光单体B是将4‑氯‑1,8‑萘二甲酸酐与3‑二甲氨基丙胺反应，产物再与甲醇钠反应，得到的中间体进一步与氯丙烯反应制得。辅助聚合物为月桂基甲基丙烯酸酯‑N,N‑二甲基氨基乙基甲基丙烯酸酯共聚物。本发明的自示踪型阻垢缓蚀剂通过将荧光基团共价键合到聚合物主链上，实现了药剂浓度的准确在线监测，且具有优异的阻垢和缓蚀性能。
天眼查资料显示，上海未来企业股份有限公司，成立于1995年，位于上海市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本3379.288万人民币。通过天眼查大数据分析，上海未来企业股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目233次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息75条，此外企业还拥有行政许可57个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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