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·聚焦:人工智能、芯片等行业
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前言：
报告聚焦光刻机行业技术演进、全球格局与国产替代进展，详解核心子系统突破路径与产业链投资标的，为行业发展提供参考。
作者| 方文三
图片来源 |网 络
光刻机是晶圆制造核心设备，价值量占半导体设备市场24%，技术历经五代升级，从汞灯演进至 EUV，通过缩短光源波长、提升数值孔径等路径推动制程向 3nm 及以下突破。光源、光学系统与工作台构成整机核心，蔡司垄断 EUV 反射镜供应，ASML 凭借双工件台与 EUV 技术占据全球 61.2% 市场份额。国产替代迎来多重机遇，政策扶持与市场需求共振推动技术突破。上海微电子实现 90nm 光刻机量产，华卓精科双工件台打破垄断，EUV 光源与光学元件研发取得进展。产业链标的各具优势，福晶科技主导非线性光学晶体，茂莱光学深耕光刻光学器件，波长光电切入直写光刻镜头赛道，汇成真空布局掩模版镀膜设备，共同构筑国产替代核心力量。
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