北京
国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“制造光学元件的反射镜基板的方法、光学元件和投射曝光设备”的专利，公开号CN121335869A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明涉及一种制造投射曝光设备、尤其是EUV投射曝光设备（100）的光学元件的反射镜基板（201、301、401、501）的方法，该反射镜基板包含第一部件（202、402、502）和至少一个第二部件（204、304、404、504），其中该第一部件（202、402、502）和该至少一个第二部件（204、304、404、504）至少在面向连接部（211、308、408、508）的一侧由硅构成，且该方法包含以下步骤：提供/制造该反射镜基板（201、301、401、501）的至少两个部件（202、402、502、204、304、404、504），以及通过加热到接合温度并优选地垂直于接合表面（203、205、403、405、503、505）施加接合压力来接合所述至少两个部件（202、402、502、204、304、404、504）。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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