北京
国家知识产权局信息显示，上海稷以科技有限公司申请一项名为“一种离子能量控制筛网装置及半导体刻蚀设备”的专利，公开号CN121306896A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明涉及半导体设备技术领域，更具体地说，涉及一种用于原子层刻蚀的离子能量控制筛网装置及半导体刻蚀设备。本装置至少包括第一金属网、第二金属网、第三金属网和第四金属网，以及电场电极板；第一金属网和第二金属网依次设置；电场电极板，设置在第二金属网和第三金属网之间；第四金属网，设置在第三金属网下方；其中，第一金属网和第二金属网的孔阵列对齐设置；第三金属网的孔阵列图案相对于第二金属网的孔阵列图案在平行于网面的方向上错开设置；第四金属网和第三金属网的孔阵列对齐设置。本发明实现了原子层刻蚀工艺窗口的精准匹配，显著提升原子层刻蚀工艺的选择比、方向性和改善表面粗糙度。
天眼查资料显示，上海稷以科技有限公司，成立于2015年，位于上海市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本475.5886万人民币。通过天眼查大数据分析，上海稷以科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目89次，财产线索方面有商标信息36条，专利信息150条，此外企业还拥有行政许可14个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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