北京
国家知识产权局信息显示，广东先导微电子科技有限公司申请一项名为“一种低particle的碳化硅晶片清洗工艺”的专利，公开号CN121289167A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体材料技术领域，具体公开了一种低particle的碳化硅晶片清洗工艺。该工艺将待清洗的碳化硅晶片依次置于第一清洗液、第二清洗液中进行浸泡处理；其中，第一清洗液用于对碳化硅晶片表面的有机污染物进行碳化处理，第二清洗液用于对碳化硅晶片表面的颗粒进行溶解和松动处理；随后采用第三清洗液对匀速旋转的碳化硅晶片依次进行低频兆声波清洗、高频兆声波清洗、干燥处理，得到表面洁净的碳化硅晶片。本申请通过多重化学浸洗、低频兆声和高频兆声的协同作用机制，高效剥离了附着牢固的大尺寸颗粒，同时也完成了对亚微米级颗粒的精准清除，解决现有的晶片清洗工艺无法兼顾大颗粒剥离与亚微米级颗粒清除的技术难题。
天眼查资料显示，广东先导微电子科技有限公司，成立于2020年，位于清远市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本59292.16万人民币。通过天眼查大数据分析，广东先导微电子科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目44次，财产线索方面有商标信息18条，专利信息547条，此外企业还拥有行政许可195个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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