北京
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国家知识产权局信息显示，钜嘉联合科技股份有限公司申请一项名为“纳米压印模具与斜面光栅制造方法”的专利，公开号CN121276676A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，一种纳米压印模具，用以压印被涂布在基材上的压印材料以形成斜面光栅，其包括：第一模座；及第二模座，被配置为与第一模座合模，基材被夹设于第一模座与第二模座之间，第二模座包括：第一斜孔，具有斜面，第一斜孔的第一端贯穿第二模座的第一面并面对基材，第一斜孔的第二端贯穿第二模座的第二面；及第一斜销，可沿移动方向移动于第一斜孔内，第一斜销与基材接触的一面具有多个凹陷纹路，各凹陷纹路具有斜面，第一斜销可压印被涂布在基材上的压印材料以形成斜面光栅；其中，移动方向与各凹陷纹路的斜面及斜面光栅的斜面实质上互相平行。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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